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    • 適用於高（gāo）溫高（gāo）壓條件下的幹（gàn）法除塵設備

    • 本技術研發（fā）的目的在於提供一種適用於高溫高壓流化床粉體反反應的幹法（fǎ）除塵器，以解決實際生產過程中遇到的除塵效果不（bú）好、操（cāo）作困難和除塵設備成本高的技術問題（tí），在三氯氫矽、多晶矽冷氫化以（yǐ）及有機矽合（hé）成製備的工藝中廣泛的應用。...

    • 反應尾氣中氯氣的無害化處理裝（zhuāng）置

    • 本技術研發要解（jiě）決的技術問題是（shì）克服（fú）現有的（de）缺陷，提（tí）供（gòng）一種反應尾氣中氯氣的無害化處理裝置，多次的淨化（huà）工序提高了尾氣中氯氣的（de）吸收效率，自動化程度（dù）較高，控製精準且操作簡便，實現了（le）反應尾氣中氯氣無害化（huà）處理過程（chéng）的連（lián）續運行，實現對循環使用的氫（qīng）氧化鈉（nà）溶液（yè）進行...

    • 鈣鈦礦用高純碘化鉛類（lèi）金屬鹵化物的工業化生產

    • 本技術研發要解決的技術問題是克服現有的缺陷，提供一種高純碘化鉛類金屬鹵（lǔ）化物生產裝置，實現鈣（gài）鈦礦用（yòng）高純碘（diǎn）化鉛類金屬鹵化物的工（gōng）業化製備（bèi），自動化程度（dù）較高，可為高純碘（diǎn）化鉛類金（jīn）屬（shǔ）鹵化物節（jiē）約人工成（chéng）本（běn），通過降溫重結晶（jīng）的（de）方法製備的產品純度（dù）較高，提高高純碘化...

    • CMP研磨液專用氣（qì）相二氧化矽

    • CMP (ChemicalMechanicalPolishing)化學機械拋光是一個化學腐（fǔ）蝕（shí）和機械摩擦的結合。是目前較為普遍的半導體材料表麵平整技（jì）術，兼收了機（jī）械（xiè）摩擦和化（huà）學腐蝕（shí）的優點，從而避免了由單純機械拋光造成的表麵損傷和由單純（chún）化學拋光易造...

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